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삼성전자는 2분기 시설투자로 총 12.7조원이 집행됐고, 이 중 반도체에 7.5조원, 디스플레이에 4.5조원이 투자됐다고 27일 밝혔다. 상반기 누계로는 22.5조원이 집행됐다.
올해 시설투자 계획은 아직 확정되지 않았으나, 반도체와 디스플레이를 중심으로 지난해 대비 투자가 대폭 증가할 것으로 예상된다.
반도체 중 메모리의 경우 V낸드 수요 증가 대응을 위해 평택 단지의 생산량 확대와 평면 낸드를 V낸드로 전환하는 투자가 이뤄질 계획이다.
시스템LSI는 D램을 생산하는 화성 11라인 일부를 이미지센서 생산 라인으로 전환하는 투자가 진행된다. 파운드리는 10나노 신규 라인 증설이 진행 중이다.
디스플레이는 플렉서블 OLED 수요 증가에 대응하기 위한 생산량 확대에 투자가 이뤄진다.
km@fnnews.com 김경민 기자
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