시노펙스, 국내 첫 10나노급 반도체 필터 라인 구축

수입 의존해온 반도체용 케미컬필터 국산화
첫 나노급 ePTFE 설비로 자체 디자인 적용
연말 PTFE 멤브레인 핵심기술 개발 예상

석유민 시노펙스 R&D센터장이 반도체 공정에 쓰이는 AF필터를 들어 보이고 있다. 시노펙스 제공.

[파이낸셜뉴스] 시노펙스가 그동안 전량 수입에 의존해온 10나노미터(㎚) 이하 첨단 반도체 케미컬 여과용 불소수지필터(이하 AF필터) 국산화에 나선다.

9일 시노펙스에 따르면 10나노급 AF필터 생산시설 구축을 위한 설비투자를 결정했다. AF필터는 국내 시장만 연간 1500억원 규모로 추정된다.

AF필터는 'ePTFE' 소재를 활용한 필터로 반도체 세정공정에서 사용하는 불산과 황산, 질산 등 강산에 견디면서도 나노급 크기 불순물을 제거하는 역할을 한다.

특히 필터 자체에서 발생 가능한 용출물 농도를 'PPT(Part per trillion, 수조 분의 일)' 수준으로 관리해야 하는 것이 특징이다. 이런 이유로 현재 전량 수입에 의존한다. 반도체 산업에서는 최근 10나노급 반도체 생산을 위해 10나노 이하 필터가 필수다.

시노펙스는 AF필터에 쓰이는 'PTFE' 소재 국산화를 위해 △2019년 국책 과제로 연구·개발에 착수 △2020년 ePTFE 소재 벤처기업 프론텍 흡수합병 △올해 3월 20나노급 시험생산 시설을 갖추는 등 노력을 이어왔다.

시노펙스가 이번에 투자하는 ePTFE 생산설비는 필터 기공 크기가 머리카락 두께 1만분의 1에 해당하는 10나노급 초미세 기공을 만드는 멤브레인 필터 기술을 적용한다.

이는 국내에서 처음 적용하는 기술이다.

석유민 시노펙스 R&D센터장은 "우리나라 반도체 산업 내 소재·부품·장비(이하 소부장) 공급망 안정을 위해 반도체 핵심 공정 중 하나인 세정공정용 10나노급 AF필터 국산화에 나섰다"며 "이번 생산시설 완공과 함께 양산하는 시점인 내년 하반기에는 15나노급 양산용 제품을 출시할 예정"이라고 말했다.

이어 "향후 2025년 말까지 3나노급 필터 기술 개발과 양산 적용을 동시에 진행할 것"이라며 "이를 통해 현재 해외 필터업체가 독점하는 반도체 케미컬 필터를 대체할 계획"이라고 덧붙였다.

[e-mail] 강경래 기자