바스프, 반도체 공정용 차세대 황색광 솔루션 공개

포토리소그래피 공정 최적화…에너지 사용량 최대 25% 절감
반도체·PCB·디스플레이 적용 가능…"5년 이상 성능 검증"

[파이낸셜뉴스] 바스프(BASF)가 반도체와 인쇄회로기판(PCB), 디스플레이 제조 공정 등에 적용할 수 있는 차세대 황색광 솔루션을 공개하며 첨단 공정용 친환경 조명 시장 공략에 나섰다.

바스프는 포토리소그래피 기반 공정과 발광다이오드(LED) 생산, 태양광 에너지 산업 등에 활용 가능한 신규 황색광 솔루션을 선보였다고 18일 밝혔다. 해당 기술은 황색광 공정에 요구되는 엄격한 스펙트럼 제어 성능을 유지하면서 기존 황색 형광등과 필터 기반 LED를 대체할 수 있는 것이 특징이다.

특히 높은 에너지 효율과 낮은 전력 소비, 탄소 배출 저감 효과를 바탕으로 반도체 제조업체들의 지속가능성 목표 달성을 지원할 수 있다고 회사 측은 설명했다.

기존 황색 형광등은 민감한 공정을 보호하기 위해 530나노미터(nm) 이하 단파장을 차단하지만, 이 과정에서 상당한 에너지 손실이 발생한다. 반면 바스프의 신규 솔루션은 흡수-변환 메커니즘을 적용해 유해 파장을 차단하는 동시에 이를 유용한 황색광으로 변환해 에너지 효율과 시스템 성능을 동시에 높였다.

바스프는 이 기술이 첨단 반도체 애플리케이션에 필요한 스펙트럼 청정성과 균일한 밝기, 시각적 편안함까지 확보했다고 강조했다. 또한 튜브형 조명과 패널, 방폭형 조명 등 기존 설비에도 적용 가능하며 현재 사용 중인 전력·열 관리 시스템과 호환돼 설치 부담을 줄일 수 있다고 설명했다.

신규 솔루션은 기존 황색 형광등 및 필터 기반 LED 대비 낮은 전력 소비로 동일한 밝기를 구현할 수 있어 전력 및 냉각 비용 절감 효과가 기대된다. 바스프는 해당 솔루션 적용 시 에너지 사용량을 최대 25%까지 줄일 수 있다고 밝혔다. 아울러 낮은 열 전달 특성을 통해 안정성과 수명을 높였으며, RoHS 및 REACH 규정도 충족했다.

바스프는 실제 반도체 공정 환경에서 5년 이상 사용한 결과 측정 가능한 성능 저하가 나타나지 않았다고 덧붙였다.

바스프 황색광 솔루션은 클린룸 조명과 리소그래피, PCB 검사 등 엄격한 단파장 제어가 필요한 공정에 적용 가능하다. 바스프와 협력사는 샘플링과 현장 평가, 탄소발자국 분석 등을 포함한 기술 지원을 제공해 고효율·저탄소 조명 환경 도입 확대에 나설 계획이다.

[e-mail] 구자윤 기자