세계적인 포토마스크 업체인 미국의 포트로닉스가 한국에 3억달러(약 3000억원) 규모의 생산시설을 신축한다.
10일 포트로닉스는 현재 최대 1만평 규모로 생상시설을 짓기위해 부지를 물색중이며, 오는 2·4분기중 시설공사에 착공한 후 1년내에 제품을 생산할 계획이라고 밝혔다.
사업 1차 연도에 공장 건설 비용으로 약 5000만달러를 초기 투입하고 기계설비 비용으로 1억5000만달러, 사업 2차 연도에는 장비 비용으로 1억달러를 추가할 계획이라고 설명했다.
회사측은 내년 상반기부터 65nm 및 45nm급 반도체용 포토마스크를 생산, 국내 뿐만 아니라 세계 각국에 제품을 공급한다는 계획이다.
이를 통해 포트로닉스는 삼성, 하이닉스, LG필립스LCD, 동부아남반도체 등 주요 반도체·플렛패널디스플레이(FPD) 기업이 있는 한국을 전세계 65nm·45nm 생산 거점으로 활용한다는 전략이다.
현재 세계 마스크 시장은 반도체 부문에서 일본의 디엔피와 도판이, 액정표시장치(LCD) 부문에서는 일본의 호야가 포트로닉스와 치열한 경쟁을 벌이고 있다.
포트로닉스 아시아사장 정수홍은 “포트로닉스 한국지사인 피케이엘은 이번 프로젝트를 통해 포트로닉스 글로벌 연구개발(R&D)을 적극 지원하는 연구개발기지 역할을 수행하게 됐다”며 “65nm 및 45nm급 포토마스크의 전세계 생산 중심기지로 그 위상을 높이게 됐다”고 말했다.
/ winwin@fnnews.com 오승범기자
■사진설명=션 스미스 CFO , 정수홍 아시아 사장 (피케이엘 사장), 마이크 루타티 CEO, 크리스 프로글러 CTO(왼쪽부터) 등 포트로닉스 경영진이 10일 서울 삼성동 그랜드 인터컨티넨탈호텔에서 포트로닉스의 한국 진출과 관련, 기자간담회를 갖고 있다.
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