디에이테크놀로지, 2차전지 관련 특허 2종 연달아 취득

디에이테크놀로지 CI

[파이낸셜뉴스] 2차전지 설비 전문업체 디에이테크놀로지가 이종욱 대표 취임 이후 지속적으로 기술 경쟁력을 강화하고 있다.

디에이테크놀로지는 2차전지 관련 국내외 특허 2종을 연이어 취득했다고 17일 밝혔다. 특허명은 ‘2차전지의 셀 스택 적층 장치 및 방법’, ‘전지 부품 분배장치 및 이를 갖는 2차전지 셀 제조 시스템’ 이다.

2차전지의 셀 스택 적층 장치 및 방법에 관한 특허의 경우 양극판과 음극판을 교대로 적층할 때 분리막을 직접 양극판과 음극판으로 밀어서 지그재그 형태로 적층한다. 이 과정에서 분막의 양측에 배열되는 양극판과 음극판의 간격, 분리막의 하단을 상축으로 상승시키는 속도를 적절히 제어해 적층과정에서 발생할 수 있는 스크래치를 방지할 수 있다. 적층 속도 역시 기존 장비보다 향상된 것으로 알려졌다.

전지 부품 분배장치 및 이를 갖는 2차전지 셀 제조 시스템은 2차전지 셀의 전극판과 전지 부품을 지정된 복수의 공정 위치로 분배하며 연속적으로 공급할 수 있는 장치이다. 공정 진행 속도를 대폭 향상시킬 수 있으며 복수의 공정 장비를 하나로 통합하여 구성할 수 있을 것으로 기대된다.

디에이테크놀로지는 이 대표 선임 이후 지속적으로 신기술 개발 및 특허 취득에 힘을 쏟고 있다. 장 폭 셀 스태킹, 고속 NCM 장비 등을 개발했으며, 고속 레이저 노칭 장비의 경우 지난 10월 국내 글로벌 배터리 업체에 공급을 진행했다.

디에이테크놀로지 관계자는 “신임 대표 취임 이후 기술 경쟁력 강화를 위해 적극적으로 나서고 있고 신기술 및 특허 취득에 성공하는 등 성과를 내고 있다”며 “이미 2차전지 설비 분야에서 경쟁력을 인정받고 있는 만큼 내년부터는 본격적인 수주가 진행될 것”이라고 말했다.

[e-mail] 최두선 기자