기계연구원, 국내 최초 400㎚급 레이저 직접 리소그래피 개발
고가의 독일·네덜란드 장비 대체… 바이오센서 등 제작에 활용
고가의 독일·네덜란드 장비 대체… 바이오센서 등 제작에 활용
한국기계연구원은 나노공정장비연구실 이재종·임형준 박사팀이 국내 최초로 400㎚급 레이저 직접 리소그래피 장비 국산화에 성공했다고 12일 밝혔다.
임형준 박사는 "레이저 직접 리소그래피는 기계, 광학, 재료, 전자공학 등 다양한 분야가 융합되는 대표 기술"이라며 "생산 공정의 경제성을 획기적으로 개선할 수 있어 향후 세계 시장의 주도권을 확보할 것으로 기대된다"고 말했다.
이 레이저 리소그래피 장비는 400㎚ 수준의 미세한 초점을 초당 40㎜ 속도로 이동하며 기판 위에 코팅된 레지스트를 가공할 수 있다. 반도체 생산성을 획기적으로 개선할 수 있는 기술로 기대를 모은다.
또한 작은 초점으로 넓은 면적에 적용하면서 길어지는 공정시간을 단축하기 위해 공정의 선폭을 최대 50배까지 키울 수 있는 기술을 고안하고, 특허도 출원했다.
나노 수준의 리소그래피 기술은 차세대 반도체 리소그래피 기술 중 하나로 각광받고 있다. 현재 상용화 된 리소그래피 기술은 독일, 네덜란드 등이 주도하고 있다. 국내에서는 평면과 비평면의 기판 위에 400㎚ 수준의 정교한 패턴을 구현한 것은 이번이 처음이다.
이번에 개발된 기술을 적용하면 기존 리소그래피 기술로 구현하는데 한계가 있는 3차원 나노-마이크로 복합구조체를 구현할 수 있을 뿐 아니라 임의의 형상 표면에도 나노구조체를 구현할 수 있다.
monarch@fnnews.com 김만기 기자
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