SK하이닉스, 세계 최초 HKMG 공정 적용 '모바일 D램' 판매 시작

최근 판매를 시작한 SK하이닉스의 초저전력 LPDDR5X(SK하이닉스 제공)

(서울=뉴스1) 노우리 기자 = SK하이닉스가 세계 최초로 '하이케이 메탈게이트'(High-K Metal Gate·HKMG) 공정을 도입한 모바일용 D램 LPDDR5X 개발을 완료하고 최근 판매를 시작했다고 9일 밝혔다.

HKMG 공정은 반도체 공정의 미세화에 따른 누설 전류를 막기 위해 유전율 상수(K)가 높은 물질(High-K·하이케이)을 적용한 것을 뜻한다.

이 제품은 국제반도체표준협의기구(JEDEC)가 정한 초저전압 범위인 1.01~1.12V에서 작동하며 이전 세대 대비 소비전력을 25% 줄이는 데 성공했다.

모바일용 D램으로 불리는 LPDDR의 경우 규격명에 LP(Low Power)라는 표현이 사용된 만큼 낮은 전력 소비가 최대 관건이다. 모바일의 경우 전력이 한정돼 있기 때문에 제품의 사용 시간을 늘리기 위해선 전력소비를 최대한 줄여야 한다.

이번에 SK하이닉스에서 개발에 성공한 LPDDR5X는 모바일용 D램 중에서는 최초로 HKMG 공정을 도입해 속도 향상과 소비전력 감소를 동시에 이뤘다.

LPDDR5X를 통해 D램의 소비전력이 더욱 낮아지면서 해당 제품이 적용된 모바일 디바이스는 한 번 충전해 사용할 수 있는 시간이 더욱 길어질 것으로 보인다. 이번 LPDDR5X는 이전 세대 대비 33% 빠른 8.5Gbps의 동작 속도를 자랑한다.

이욱재 SK하이닉스 PL은 “LPDD5X는 20% 이상의 소비전력 감소를 이뤄냈는데, 고객사에서도 좋은 피드백을 많이 받고 있다”고 말했다.